Reinigung verfahrenstechnischer Anlagen

Um eine Produktion unter hygienischen oder ultrareinen Bedingungen zu gewährleisten, müssen die verwendeten Anlagen in bestimmten Intervallen gereinigt werden. Die Sauberkeit der Anlagen ist in diesem Fall eine Voraussetzung zur Herstellung einwandfreier Produkte. Dazu ist ein effizientes Reinigungsverfahren notwendig. Ziel der Reinigung ist die möglichst vollständige Befreiung der produktberührenden Oberflächen von unerwünschten Stoffen, Produktresten und schädlichen Mikroorganismen. Bei geschlossenen Anlagen wird dazu in der Regel eine vollautomatische CIP-Reinigung (Cleaning in Place) eingesetzt, die eine Anlagenreinigung ohne Demontage ermöglicht. Der Aufbau und die Regelung einer CIP-Reinigung werden in dem Kapitel ebenso behandelt wie wissenschaftliche Grundlagen zu deren Einflussgrößen, wie z. B. die Art und Konzentration der Reinigungschemikalien, die Temperatur und die Strömungsmechanik während der Reinigung, die konstruktive Gestaltung der Anlage, die produktberührenden Werkstoffe und die Güte der produktberührenden Oberflächen. Es werden unterschiedliche Ansätze zur physikalischen Beschreibung der Reinigungskinetik vorgestellt, die zur Abschätzung der Reinigungszeit bis zum Erreichen eines bestimmten Reinigungsergebnisses wichtig ist. Der Nachweis des Reinigungserfolges und die Validierung der Effizienz des Reinigungsverfahrens werden ebenso im Kapitel behandelt.