Die Erzeugung von Beschichtungen über Magnetronsputtern ist ein essenzieller Prozess in der modernen Materialverarbeitung. Ein wesentlicher Energieanteil entfällt dabei auf die Substratheizung, die zur Erhöhung der Adatommobilität nötig ist. HiPIMS (engl. high power impulse magnetron sputtering) bietet durch hohe Plasmadichten und erhöhte Ionenenergien die Möglichkeit, diese Mobilität auch bei niedrigeren Substrattemperaturen zu erreichen und dadurch energieeffizientere Prozesse sowie qualitativ hochwertigere Schichten zu realisieren. Ziel dieser Arbeit ist es, den Energieeintrag und die Ionenenergie von HiPIMS im Vergleich zu DC-Magnetronsputtern zu untersuchen sowie eine neuartige Superposition von HiPIMS mit HF-Plasma experimentell zu charakterisieren.