Author Correction: Improved oxidation behavior of Hf_0.11Al_0.20B_0.69 in comparison to Hf_0.28B_0.72 magnetron sputtered thin films

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发表日期：

2024年10月24日

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Pauline Kümmerl,
Sebastian Lellig,
Amir Hossein Navidi Kashani,
Marcus Hans,
Peter J. Pöllmann,
Lukas Löfler,
Ganesh Kumar Nayak,
Damian M. Holzapfel,
Szilárd Kolozsvári,
Peter Polcik,
Peter Schweizer,
Daniel Primetzhofer,
Johann Michler,
Jochen M. Schneider

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