Author Correction: Wafer-scale high-κ HfO₂ dielectric films with sub-5-Å equivalent oxide thickness for 2D MoS₂ transistors

期刊论文
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发表日期：

2026年4月13日

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Songge Zhang,
Tao Zhang,
Hua Yu,
Tong Li,
Xiuzhen Li,
Chenyang Cui,
Yuchao Zhou,
Hailing Guo,
Shuopei Wang,
Dongfeng Zheng,
Liangfeng Huang,
Liqi Bai,
Su Liu,
Cheng Shen,
Wei Yang,
Luojun Du,
Dongxia Shi,
Lede Xian,
Xiaoming Tao,
Yang Chai,
Na Li,
Guangyu Zhang

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